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低压真空渗碳真空炉的工艺

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低压真空渗碳真空炉的工艺

发布日期:2019-03-25 作者: 点击:

低压真空渗碳真空炉的工艺分为以下4点


  (1)低压真空渗碳真空炉是一种改进的气体渗碳工艺,渗碳时远低于大气压,典型的压力范围是300~2500Pa。其优点是钢表面保持非常洁净,因为没有气体的相互反应,真空环境下碳更快地到达钢的表面。


  (2)渗碳时羟类气体被引入渗碳室,裂解产生了活性碳原子,它们自由地渗入钢的表面,而氢和剩余碳氢化合物的副产品被真空泵排除了系统。目前我们采用真空渗碳的羟类气体是乙炔(C2H2)和丙烷(C3H8)。


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  (3)在低压真空渗碳中,羟类气体的裂解是非平衡反应,意味着钢表面很快能达到奥氏体中的碳饱和水平。通过重复多个强渗和扩散步骤,能够获得希望得到的碳分布和渗层深度。


甘肃快3  (4)低压真空渗碳工艺的控制是基于扩散理论的“奥氏体碳含量饱和值控制法”,即整个渗碳过程由数个渗碳程序集合组成,每个渗碳程序包括强渗和扩散两个阶段。确定每个子渗碳程序的个数和每个渗碳程序包括强渗期、扩散期时间需要依据材料的成分、渗层深度的要求和表面碳浓度的要求,建立确定的数学模型后,利于计算机计算出来。


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